Řada MYS – Plazmový systém MYL10 Dosažení velkoobjemové povrchové úpravy olověného rámu S rychlým růstem trhu elektroniky a polovodičových trhů stále rostou požadavky průmyslu na efektivitu a spolehlivost výroby. Eliminací čekacích dob spojených s tradičním vakuovým plazmovým zpracováním poskytuje čisticí systém řady MYS výrazně vyšší propustnost a zlepšené celkové výnosy a zároveň zajišťuje bezpečnou manipulaci se všemi citlivými elektronickými součástmi.
Řada MYS – plazmový systém MYS10iL Snadno zvládne povrchovou úpravu u velkoformátových produktů S rychlým růstem trhu elektroniky a polovodičových trhů stále rostou požadavky průmyslu na efektivitu a spolehlivost výroby. Díky eliminaci čekacích dob spojených s tradičním vakuovým plazmovým zpracováním poskytují čisticí systémy řady MYS výrazně vyšší propustnost a zlepšené celkové výnosy a zároveň zajišťují bezpečnou manipulaci se všemi citlivými elektronickými součástmi.
Řada MYS – Plazmový systém MYS10SD Vysoce účinná, ultranízkoteplotní a nákladově efektivní plazmová platforma S rychlým růstem trhu elektroniky a polovodičových trhů stále rostou požadavky průmyslu na efektivitu a spolehlivost výroby. Díky eliminaci čekacích dob spojených s tradičním vakuovým plazmovým zpracováním poskytují čisticí systémy řady MYS výrazně vyšší propustnost a zlepšené celkové výnosy a zároveň zajišťují bezpečnou manipulaci se všemi citlivými elektronickými součástmi.
Řada MYS – Plazmový systém MYS10 Snadno zvládne širokou škálu aplikací povrchové úpravy S rychlým růstem trhu elektroniky a polovodičových trhů stále rostou požadavky průmyslu na efektivitu a spolehlivost výroby. Eliminací čekacích dob spojených s tradičním vakuovým plazmovým zpracováním poskytují čisticí systémy řady MYS výrazně vyšší propustnost a zlepšené celkové výnosy a zároveň zajišťují bezpečnou manipulaci se všemi citlivými elektronickými součástmi.
Používáme cookies, abychom vám nabídli lepší zážitek z prohlížení, analyzovali návštěvnost webu a přizpůsobili obsah. Používáním tohoto webu souhlasíte s naším používáním souborů cookie.Zásady ochrany osobních údajů