Řada MYS – Plazmový systém MYW10 Umožňuje vysoce flexibilní a vysoce výkonné procesy povrchové úpravy plátků S rychlým růstem trhu elektroniky a polovodičových trhů stále rostou požadavky průmyslu na efektivitu a spolehlivost výroby. Odstraněním čekacích dob spojených s tradičním vakuovým plazmovým zpracováním poskytuje čisticí zařízení řady MYS výrazně vyšší propustnost a zlepšené celkové výnosy a zároveň zajišťuje bezpečnou manipulaci se všemi citlivými elektronickými součástmi.
CKD Technology má nejen skladem zcela nové stroje, které jsou ihned k dispozici.
Máme také podrobný pronájem, připravený vyhovět vašim specifickým výrobním požadavkům a zároveň výrazně snížit vaši počáteční investici. Kontaktujte nás pro další podrobnosti.
CKD má tým profesionálních inženýrů, kteří jsou připraveni dodat služby na klíč.
Pro obchodování s použitými stroji nás prosím kontaktujte přes Whatspp nebo e-mail.
Plazmový systém MYW10 poskytuje vysoce flexibilní a vysoce výkonný proces povrchové úpravy plátků.
• Argonový plazmový systém za atmosférického tlaku
• 100mm-wide inline plasma batch processing; nabízí 2–5krát vyšší účinnost a o více než 30 % nižší provozní náklady ve srovnání s tradičními metodami
• 100% neutrální plazma; bezpečné a šetrné k citlivým elektronickým součástem – žádné plazmové bombardování, statická elektřina, jiskry, jiskření, prach, vysoké teplo, povrchové vlnění nebo UV záření, což zajišťuje nulové poškození produktu
• Všestranné chemické procesy: O2 proces pro odstraňování organických kontaminantů; H2 proces pro odstranění oxidů kovů a aktivaci povrchů produktů
• Nezpůsobuje žádné znečištění částicemi nebo změny v drsnosti povrchu na waferu
• Compatible with both wafer and tape frame production, allowing for rapid switching between the two
• Splňuje standardy třídy 10 pro čisté prostory a SEMI
Specifikace
Základní parametry
MYW10
Požadavky na napájení
AC 380V, 13kW, 20A, 50/60Hz
Požadavky na tlak vzduchu
90 psi (6 barů)
Rozměry
2000 x 2800 x 2200 mm
Hmotnost
2200 kg
Certifikační standardy
SEMI S2/S6/S8
Přesnost polohování
XY: ±20 um @ 3o; Z: ±10 um @ 3σ
Opakovatelnost osy XYZ
XY: ±10 um @ 3o; Z: ±5 um @ 3σ
Maximální rychlost
1000 mm/s (XY)
Akcelerace
1,0 g
Pohonný systém
AC servo
Specifikace pracovní plošiny
Způsob nakládání/vykládání
OHT + Load Port + Robotické rameno
Užitečné zatížení robotického ramene
3 kg
Kompatibilní velikost oplatky
12 palců (300 mm)
Softwarový operační systém
Windows 10
X/Y cestování
400 mm / 500 mm
Pojezd v ose Z
20 mm
Komunikační protokol
SECS/GEM
Provozní rozsah
Oblast ošetření plazmou (Š×H)
300×300 mm
Kontaktní úhel vody po úpravě (WCA)
WCA < 10° (křemíkový plátek)
Metoda léčby plazmou
O2 proces pro odstranění organických kontaminantů H2 proces pro odstranění oxidu kovu
Požadavky na plazmový systém
RF napájení
600W při 27,12MHz
Hlavní plazmový plyn
Argon
Procesní plyn
O2, N2 nebo H2
Rozsah tlaku přívodu plynu
40–100 psi (0,3–0,7 MPa)
Hot Tags: Výrobce řetězu MYW10, dodavatel řetězu MYW10, velkoobchod s odolným průmyslovým řetězem
Pokud máte jakýkoli dotaz ohledně nabídky nebo spolupráce, neváhejte nás kontaktovat e-mailem nebo použijte následující formulář. Náš obchodní zástupce vás bude kontaktovat do 24 hodin.
Používáme cookies, abychom vám nabídli lepší zážitek z prohlížení, analyzovali návštěvnost webu a přizpůsobili obsah. Používáním tohoto webu souhlasíte s naším používáním souborů cookie.Zásady ochrany osobních údajů